NIWeek 2010 — эффективность инноваций с инструментами проектирования National Instruments

Завершилась 16-я Международная конференция систем графического проектирования NIWeek 2010, которая ежегодно проводится компанией National Instruments. Конференция и выставка состоялись с 3 по 5 августа 2010 г. в выставочном центре Austin Convention Center (г.Остин, штат Техас, США).

Из краткого обзора Вы сможете узнать об основных темах докладов и наиболее выдающихся разработках и технологиях, представленных в рамках мероприятия. В этом году NIWeek посетили более 3000 специалистов.

Автор(ы): Афонская Т.Д., Афонский А.А., Коптева Н.А.
Номер журнала: КИПиС 2010 № 5
Читать в PDF: Читать